Thiết Bị Các Hãng
Thiết Bị Các Hãng

Máy Quang Phổ Phát Xạ Plasma PerkinElmer Model Optima 8300 ICP-OES

Optima 8300 ICP-OES
Model: Optima 8300 ICP-OES

Một bộ tán sắc đa sắc kế mới dựa trên echelle đã được thiết kế để tận dụng tối đa khả năng của SCD. Sử dụng lăng kính echelle tối ưu hóa cho hiệu suất UV của PerkinElmer® và một lăng kính phân tán chéo Schmidt độc đáo, hệ thống quang học Optima 8300 có khả năng truyền quang vượt trội và độ phân giải tuyệt vời, cung cấp cho bạn giới hạn phát hiện và lựa chọn đường phổ vượt trội.

Liên hệ

Tổng quan

Máy Quang Phổ Phát Xạ Plasma PerkinElmer Model Optima 8300 ICP-OES

Máy quang phổ phát xạ plasma ICP-OES Optima 8300 là sản phẩm tiên tiến của hãng PerkinElmer (Mỹ), nổi bật với khả năng phân tích các nguyên tố vô cơ với độ chính xác cao, đạt mức ppb. Thiết bị này được ứng dụng rộng rãi trong nhiều lĩnh vực như phân tích đất hiếm, kim loại quý, kim loại màu, hợp kim, sản phẩm điện tử, y học, địa chất, luyện kim, dầu khí, và công nghiệp hóa chất. Đây là công cụ không thể thiếu trong việc kiểm tra hàng hóa và bảo vệ môi trường.


Đặc Trưng Của Máy Quang Phổ Phát Xạ Plasma ICP-OES Optima 8300

Máy Optima 8300 sở hữu nhiều tính năng nổi bật, mang lại hiệu suất vượt trội và sự tiện lợi cho người sử dụng. Công nghệ plasma Flat Plate™ giúp giảm tiêu thụ khí argon, tiết kiệm chi phí vận hành. Camera PlasmaCam™ đơn giản hóa quá trình lập phương pháp và hỗ trợ chẩn đoán từ xa.

Hệ thống quang học tiên tiến của thiết bị giúp tăng giới hạn phát hiện, cải thiện độ nhạy và độ chính xác của phân tích. Trường nhìn kép cho phép lựa chọn chế độ xuyên tâm hoặc dọc trục, tăng năng suất phân tích. Detector mảng SCD cung cấp độ chính xác cao với khả năng phát hiện hơn 6000 bước sóng. Hệ thống khí cắt giúp giảm nhiễu, nâng cao độ chính xác của phép đo, và tháp plasma dễ điều chỉnh giúp đơn giản hóa bảo dưỡng và tối ưu hóa hiệu năng thiết bị.

Máy Quang Phổ Phát Xạ Plasma ICP-OES Optima 8300


Ưu Điểm Vượt Trội của ICP-OES Optima 8300

ICP-OES Optima 8300 mang lại nhiều ưu điểm vượt trội. Hiệu suất cao và độ chính xác tuyệt đối của thiết bị giúp cung cấp giới hạn phát hiện thấp và cải thiện kết quả phân tích. Hệ thống quang học và công nghệ SCD tiên tiến giúp tiết kiệm thời gian và chi phí phân tích. Thiết bị được thiết kế bền vững, đảm bảo hiệu năng ổn định trong thời gian dài. Với khả năng tối ưu hóa quá trình phân tích và cung cấp kết quả chính xác nhanh chóng, Optima 8300 là lựa chọn hoàn hảo cho các phòng thí nghiệm và trung tâm nghiên cứu đòi hỏi công nghệ phân tích tiên tiến và chính xác.


Thông Số Kỹ Thuật Chi Tiết

Quang Phổ Phát Xạ Plasma Optima 8300 có nhiều thông số kỹ thuật chi tiết đáng chú ý. Hệ thống quang học của máy sử dụng công nghệ echelle năng lượng cao, với độ phân giải 0,006 nm tại 200 nm và cách tử echelle có mật độ 79 vạch/mm. Nguồn điện yêu cầu cho thiết bị là một pha, 200-254 VAC, dòng 20A, tần số 50/60 Hz. Kích thước của máy là dài 150 cm, cao 76 cm, rộng 80 cm, và nặng 181,5 kg. Thiết bị hoạt động tốt nhất trong môi trường phòng thí nghiệm có nhiệt độ từ 15 ~ 35°C, tối ưu ở khoảng 20±2°C.

Máy phát cao tần của Optima-8300 có tần số 40MHz, công suất từ 750 – 1500 W, với hiệu suất năng lượng hơn 81%. Điều khiển dòng khí của thiết bị bao gồm các van solenoid điều chỉnh tự động dòng khí argon và khí cắt, đảm bảo độ chính xác cao. Hệ thống dẫn mẫu của máy gồm tháp plasma sử dụng ống thạch anh, buồng phun sương Scott và đầu phun sương chéo dòng hoặc đồng tâm.


Tổng Kết

Thiết Bị Quang Phổ Phát Xạ Plasma Optima 8300 là sự kết hợp hoàn hảo giữa công nghệ tiên tiến, độ tin cậy và dễ sử dụng. Với những ưu điểm vượt trội về hiệu suất, tính năng kỹ thuật số, an toàn, không chỉ nâng cao chất lượng công việc mà còn giúp người dùng đạt được kết quả chính xác và nhanh chóng hơn bao giờ hết. Hãy liên hệ với Công Nghệ Năng Lực ngay để được tư vấn chuyên sâu và nhận những ưu đãi hấp dẫn nhất thông qua hotline 0976.299.749!

Thông số kỹ thuật

ICP system specifications

RF generator

The Optima 8300 features a fourth-generation 40 MHz, free-running solid-state RF generator, adjustable from 750 to 1500 watts, in 1 watt increments. The power efficiency is greater than 81% with < 0.1% variation in output power stability. True Power Control maintains the plasma power at the set point, even when changing sample matrices. The compact RF supply meets all FCC certification requirements for RF emission (Part 18 of FCC rules and regulations) and complies
with EC and VDE 0871 Class B requirements.

Ignition and power control

Plasma ignition is computer-controlled and totally automated. The software allows the plasma to be ignited automatically at a user-determined time and turned off automatically after an analysis.

Safety interlocks

For user safety and system protection, the system constantly monitors water flow, shear gas pressure, argon pressures, sample-compartment door closure and plasma stability, and displays the interlock status on the computer screen as graphic symbols. If an interlock is interrupted, the plasma will immediately and safely shut down.

Cooling water

A water-recirculating cooling system is required, with approximately 4 L/min flow capacity at 310 to 550 kPa and a temperature between 15 °C and 25 °C.

Câu hỏi

Chưa có câu hỏi nào.

Hãy là người đầu tiên đặt câu hỏi “Máy Quang Phổ Phát Xạ Plasma PerkinElmer Model Optima 8300 ICP-OES”

Email của bạn sẽ không được hiển thị công khai. Các trường bắt buộc được đánh dấu *

    CÔNG TY THIẾT BỊ CÔNG NGHỆ NĂNG LỰC

    Địa chỉ: Số 1A, Đường Võ Thành Trang, P. 11, Q. Tân Bình, TPHCM
    Hotline: 02.866.848.638
    SĐT – ZALO: 0976.299.749 – zalo (Mr Tuấn, Giám Đốc Kinh Doanh)
    Email: tuannguyen@nangluc.vn